MEG (mono-Etyyliyli glykoli) Tehdas

Etyleeniglykolin (monoetyyliglykoli/MEG) tuotannossa on kaksi pääreittiä. Toinen on Olefiini/EO (etyleenioksidi) -reitti, joka alkaa joko teollisuusbensiinistä, etaanista tai metanolista, lisensoijia ovat Shell, SD, UCC jne. Ja toinen on DMO (dimetyylioksalaatti) -reitti, joka on juuri syntynyt Kiinassa näinä vuosina, alkaen. synteesikaasusta. Käyttöpaine-erosta riippuen tämä DMO-reitti jaetaan edelleen normaalipaineprosessiin ja keskisuuren paineen prosessiin.

Johdanto

SL-TECH tarjoaa edistyksellisimmän ja kilpailukykyisimmän keskisuuren paineen DMO-prosessin MEG-tuotantoon. Sen tuotantokustannukset ovat paljon alhaisemmat kuin Olefiini/EO-prosessin nykyisellä alhaisella öljyhinnalla (eli 67 USD/BBT), puhumattakaan normaalipaineisesta DMO-reitistä.

Tekniset ominaisuudet

SL-TECHin MEG-laitoksella on seuraavat edut:

● Paine, jos karbonylointiyksikköä nostetaan arvoon 2,0-3,0 MPa, noin 5-7 kertaa tavanomaiseen prosessiin verrattuna, jolloin sydänlaitteiden ja putkien halkaisija pienenee 50-60 %.

● Karbonylointireaktori muutetaan putkimaisesta levytyyppiseksi, jonka lämmönsiirtoteho kasvaa kerran, katalyytin kuormituskerroin kasvaa yli 60 %, STY (Space-to-Time Yield) yli kaksinkertaistuu, mikä mahdollistaa suuressa mittakaavassa jokaisesta tuotantolinjasta.

● Katalyytillä on parempi selektiivisyys, suurempi konversiosaanto ja pidempi käyttöaika (yli 2 vuotta)

● Karbonylointiyksikön CAPEX pienenee 50 %, kun taas karbonylointiyksikön investointi vie 40 % kokonaisinvestoinneista.

MEG-spesifikaatio

S/N	Tuote	Indeksi
1	Visuaalinen ulkonäkö	Kirkas ja väritön neste, ilman mekaanisia epäpuhtauksia
2	MEG, paino-% ≥	99.8
3	Väri (Pt-Co)
	Ennen lämmitystä ≤	5
	Kuumennuksen jälkeen HCl:lla ≤	20
4	Ominaispaino@ 20 ℃，g/cm³	1.1128-1.1138
5	Vesi, paino-% ≤	0.1
6	Kiehumisalue (@ 0℃，0,10133 MPa)
	IBP ≥	196
	FBP ≤	199
7	Happamuus etikkahappoa kohti, paino-% ≤	0.001
8	Aldehydi formaldehydinä, paino-% ≤	0.0008
9	Rauta Fe:n mukaan 2+, ppm paino ≤	0.07
10	Tuhka, paino-% ≤	0.001
11	UV-läpäisy, %
	220nm ≥	75
	275 nm ≥	92
	350 nm ≥	99

Lisää ratkaisuja

DMMn (Polyoxymethylenidimetyyleteri) laite
Melamiiniformaaliidi-moukkauskomposittehdas (MFMC)
Trioksaani tehdas
MIBK (Metyyliisobuutilkiioni) Laitos

Kaikki kategoriat

Etyleenialan teollisuus ((C2)

MEG (mono-Etyyliyli glykoli) Tehdas

Johdanto

Lisää ratkaisuja

Kaikki kategoriat

Etyleenialan teollisuus ((C2)

MEG (mono-Etyyliyli glykoli) Tehdas

Johdanto

Lisää ratkaisuja

Hanki ilmainen tarjous